就清洗媒介来说，湿法清洗仍然是现代先进晶圆清洗工艺的主力。清洗。虽然Si技术中的清洗化学材料与最初RCA的配方相差不大，但整体工艺最明显的改变包括：采用了非常稀释的溶液；简化工艺；广泛使用臭氧水。
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、高端PP/PVC通风柜/厨、CDS化学品集中供液系统一站式解决方案。精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求！
刻蚀清洗台|清洗|苏州晶淼半导体(查看)由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它较具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!