清洗,苏州晶淼半导体,刻蚀清洗

      苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、高端PP/PVC通风柜/厨、CDS化学品集中供液系统一站式解决方案。刻蚀清洗设备。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。

     RCA清洗法：依靠溶剂、酸、表面活性剂和水，在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。清洗。在每次使用化学品后都要在超纯水（UPW）中彻底清洗。以下是常用清洗液及作用。

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