氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，清洗，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，晶圆清洗，造成产品质量下降，因此应控制合适的温度和清洗时间，并及时用水漂洗干净。
半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。
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