清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，有机清洗机价格，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，清洗，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，有机清洗哪家好，目前全球各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。
半导体清洗机设备生产线用于PI COAT前清洗设备，描述了LCD生产线（以CSTN为主）上使用的PI COAT清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、IR、UV清洗干燥、CP降温、冷却干燥等。
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