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分类编辑光刻机一般根据操作的简便性分为三种，半导体前道设备，手动、半自动、全自动
手动：指的是对准的调节方式，常州半导体前道设备，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程 序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要，福州半导体前道设备，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。
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所有人都知道英特尔作为全球半导体的领军企业，深圳半导体前道设备，但新型半导体工艺的实现并不是Intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不为人所知。Arete Research LLC公司的分析师Jagadish Iyer在一份报告中指出，Intel即将最终决定22nm光刻工艺设备的供应商，最终入围的是荷兰ASML Holding NV和日本尼康两家。其实在更早的45nm世代，ASML和尼康也曾双双成为Intel的光刻设备供应商，但在32nm节点上Intel应用了沉浸式光刻技术，只有尼康一家提供相关设备。
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