张家港晋宇达电子科技有限公司
接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），福州光刻机，Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，光刻机，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），杭州尼康步进光刻机，图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
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光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，厦门光刻机，容易损坏，寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。
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