张家港晋宇达电子科技有限公司
光刻机对准系统编辑制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，光刻机，这也是国产光刻机望其项背的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，福州光刻机，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。
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光刻机作为整个集成电路制造关键的设备，其设备的性能直接影响到整个微电子产业的发展。全球目前更先进的沉浸式光刻机也只有ASML、尼康和佳能三家能够生产，单台价格高达几千万美元。尼康的G-line、I-line步进式光刻机（stepper）、投影式光刻机在全球晶圆厂大量使用。
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