晶圆清洗是半导体制造典型工序中最常应用的加工步骤。就硅来说，清洗操作的化学制品和工具已非常成熟，有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所以，晶圆腐蚀，硅清洗技术在所有具实际重要性的半导体技术中是最为成熟的。第*一个完整的、基于科学意义上的清洗程序在1970年就提出了，腐蚀，这是专门设计用于清除Si表面的微粒、金属和有机污染物。
按照清洗机精度的要求不同，主要分为一样平常财打造清洗机，周详财打造清洗机与超周详财打造清洗机三大类。
在常日保存中，酸腐蚀清洗设备，与个地利家庭保存密切关系的洗涤，包罗衣物清洗机，人体皮肤，头发清洗机，家庭用品，湿制程腐蚀机，房屋的清洗机等，通常称为民用清洗机。
打造清洗机包罗各种打造品加工生打造过程当中的清洗机，各种质料及装备外表的清洗机等，以大要去除细微的污垢粒子为特性；
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