半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。
专用超声波清洗机
荡涤成绩好，干净度高且全数工件干净度一致。 荡涤速率快，提高生产效率，不须人手构兵荡涤液，安全可靠。 对深孔、细缝和工件隐蔽处亦可荡涤干净。 对工件表面无损伤，湿法腐蚀，节俭溶剂、热能、工作园地和人工。
超声波产生器超声荡涤频率从十几kHz到100kHz之间，在应用水或水荡涤剂时由空穴劝化惹起的物理荡涤力显明对低频不利，一样平常应用15-30kHz左右。对小间隙、狭缝、深孔的零件荡涤，清洗腐蚀台，用高频（一样平常40kHz以上）较好，甚至几百kHz。对钟表零件荡涤时，用400kHz。若用宽带调频荡涤，成绩更良好。 水荡涤液最符合的荡涤温度为40-60℃，尤其在天冷时若荡涤液温度低空化效应差，荡涤成绩也差。是以有局部荡涤机在荡涤缸外边绕上加热电热丝发展温度控制，当温度抬高后空化易产生，以是荡涤成绩较好。当温度继续抬高以后，空泡内气体压力增进，半导体腐蚀机，惹起打击声压下降，反应出这两因素的相乘劝化。
专用超声波清洗机一样平常安设在某些特定物件荡涤的生产流水线上。科泰生产超声波清洗机清洗机，做工后世，拥有多年的出产和销售教育，攻陷的中国大局部市场，欢迎换购本厂生产的超声波清洗机清洗机. 模范的软磁器件超声波清洗机清洗装备引见：被荡涤物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗机清洗槽荡涤，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被荡涤物件可直接包装入库。
影响超声清洗的因素
清洗液的流动速度对超声清洗效果也有很大影响，是在清洗过程中液体静止不流动，这时泡的生长和闭合运动能够充分完成。如果清洗液的流速过快，则有些空化核会被流动的液体带走有些空化核则在没有达到生长闭合运动整过程时就离开声场，因而使总的空化 强度降低。在实际清洗过程中有时为避免污物重新粘附在清洗件上．清洗液需要不断流动更新，此时应注意清洗液的流动速度不能过快，以免降低清洗效果。
清洗液中气体的含量对超声波清洗效果也有影响。在清洗液中如果有残存气体(非空化核)会增加声传播损失，腐蚀，此外在空化泡运动过程中扩散到泡中的气体，在空化泡崩溃时会降低冲击波强度而削弱清洗作用。因此有些超声清洗设备具有除气功能，在开机时先进行低于 空化阈值的功率水平作振动，以脉冲或间歇方式振动进行除气．然后功率加到正常清洗的功率水平进行超声清洗。
