清洗操作的注意事项：
在清洗机内作业时，打开机器的通风设备，关闭外窗门，以防止有机溶剂气体扩散到清洗间，污染样品，损害操作人员健康； 保持清洗机内的清洁卫生，不摆放除超声设备、烧杯、花篮以外的其他设备。
半导体硅（芯）片清洗机：
该设备主要用于清除硅（芯）片表面的废屑、金属离子等物质，是硅（芯）片生产过程中重要工序。设备主要技术特点：1.可靠的控制系统；2.触摸屏控制显示 ；3.可设置和存储工艺菜单；4.高压去离子水泵5.喷头H轴Y轴调节6.在线电阻率检测水质；7.清洗后高纯氮气干燥模块；8.自动排水装置；9.对硅片定位框架的安全定位。
超声波清洗机的日常保护与保养
1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净，有利于装备的临时高效运转及优化任务环境条件；
2、洗净液过于龌龊时应及时处理，硅片腐蚀，活期清算清洗槽、贮液槽内污垢，酸腐蚀清洗台，维持洗净槽内及外观的干净，可进步洗净槽的耐用性；
3、电气掌握箱及装备通风口远离水蒸汽、侵蚀性气体、粉尘，活期用收缩空气清算附着的灰尘；
4、活期测试装备的绝缘性能，SPM腐蚀设备，超声波清洗机关于易老化电气组件活期检讨，腐蚀，检讨接地线，确保装备良好接地此名目须由具备专业经历的电工进行，；
5、活期测试电源，确认契合装备的电源电压请求，避开在过高或过低的不稳固电源下临时任务；
6、带有过滤安装的装备，活期改换过滤芯；清洗机同时供给专业的滤芯超声波清洗机。
7、带有传动机构的，应按请求活期加注黄油、机油等光滑剂，活期改换加速机齿轮油，确保静止机件在良好光滑条件下任务；
