半导体器件技术飞速地扩展进入主流硅逻辑和模拟应用以外的领域。在显示技术、太阳电池板技术和一些其它大面积光电系统中，其表面需要加工的材料可能包括玻璃、ITO（铟锡氧化物）或柔性塑料衬底等等。
清洗的注意事项：
(1)关机重启后，时间间隔1分钟以上，苏州有机清洗机，否则可能会造成电气损坏；
(2)设备运行中，注意去离子水流量不得超过允许值，有机清洗，否则可能由于排放受阻而造成机器损坏；
(3)每次运行完毕后取出片子时，注意卡塞口是否朝上，纠正后再取出，否则片子会掉出来；
(4)一旦发现水路的关联件出现“漏水”、“滴水”现象应立即关机，有机清洗机哪家好，检修后再运行。
单晶片清洗 ：
大直径晶片的清洗采用上述方法不好保证其清洗过程的完成，有机清洗机，通常采用单晶片清洗法，其清洗过程是在室温下重复利 用DI-O 3/DHF清洗液，臭氧化的DI水（DI-O3 ）产生氧化硅，稀释的HF蚀刻氧化硅，同时清除颗粒和金属污染物。
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