传统光刻机的演变和所面临的挑战
光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，化学，材料科学，精密机械，深圳陶瓷手臂，精密控制，工程学等等。在过往的20几年中，光刻机作为半导体制造业的重要设备，无锡陶瓷手臂，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大NA非球面镜光学系统，东莞陶瓷手臂，短波长光源，陶瓷手臂，分辨率增强技术（降低K1因子），同步扫描工件台等。
光刻机
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
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