光刻机的演变及今后发展趋势
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，杭州陶瓷手臂，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，常州陶瓷手臂，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束曝光机和光学光刻机的结合，实现产业需要的各种图形的制备。
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光刻机紫外光源曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:紫外光（UV），无锡陶瓷手臂，g线：436nm;i线：365nm深紫外光（DUV），陶瓷手臂，KrF 准分子激光：248 nm， ArF 准分子激光：193 nm极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm对光源系统的要求
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