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光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，半导体前道设备，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，常州半导体前道设备，所以叫 Mask Alignment System.

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

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扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，东莞半导体前道设备，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。

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