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光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，半导体前道设备，曝光系统，东莞半导体前道设备，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，厦门半导体前道设备，手动、半自动、全自动

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光刻机性能指标分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。

光刻注意事项给出如下：

　　基片准备

　　由于基片的表面状态对其后所涂胶模的黏附性影响较大，所以一定要保证基片的清洁和干燥，以使得胶模黏附性较好。通常的做法是涂胶前将基片在热板上以150℃的高温烘烤几分钟；也可以增涂增粘剂（HMDS）。

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