光刻机
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻机，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，杭州光刻机，所以叫 Mask Alignment System.
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，福州光刻机，手动、半自动、全自动
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光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。场镜误差的匹配性最终反映在民机场内套刻误差的差异性上，因为每种透镜均有一个特征畸变图形，其位置误差作为曝光像场位置的一种函数。
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