光刻机
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，光刻机，曝光系统，厦门光刻机，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.高端光刻机堪称现代光学工业之花，常州光刻机，其制造难度之大，深圳光刻机，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
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一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
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