一种低温等离子体清洗设备，lcd等离子清洗，该设备低温等离子体发生装置、履带输送机构、自动上料、下料机构以及受控驱动电机设置在密封反应仓内，该反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置，电镀清洗，履带输送机构履带呈水平设置，自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处，低温等离子体发生装置设置于履带上方，数种气源经多气体比例混合供给装置和管道进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内，在高频高压电源的作用下形成等离子体态工作气体束流并射向履带上的物料，进行物理和化学方式清洗。
等离子清洗技术
气体被激发成等离子态有多种方式，如激光、微波、电晕放电、热电离、弧光放电等多种方式，清洗，在电子清洗中，主要是低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发，产生含有离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中，可把活化气体分为两类，一类为惰性气体的等离子体(如Ar2、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。这些活性粒子能与表面材料发生反应。
