等离子清洗技术
CFC清洗在过去的清洗工艺中占有最重要的地位，但由于其损耗大气臭氧层，而被限制使用。对于替代工艺，在清洗过程中，等离子发生器，不可避免地存在需后续工序的烘干(ODS类清洗不需烘干，但污染大气臭氧层，目前限制使用)及废水处理，等离子表面处理机，人员劳动保护方面的较高投入，低温等离子，特别是电子组装技术、精密机械制造的进一步发展，对清洗技术提出越来越高的要求。环境污染控制也使得湿法清洗的费用日益增加。
等离子体本身是一种良导体，所以能利用磁场来控制等离子体的分布和它的运动，这有利于化工过程的控制。
④热等离子体提供了一个能量集中、温度很高的反应环境。温度为104～105℃的热等离子体是目前地球上温度最‘高的可用热源。它不仅可以用来大幅度地提高反应速率，等离子，而且还可借以产生常温条件下不可能发生的化学反应。此外，热等离子体中的高温辐射能引起某些光电反应。
应用
①以热等离子体制备乙炔、硝酸、联氨和炭黑等产品。
②用热等离子技术合成高温碳化物、氮化物和硼化物，如碳化钨、氮化钛等。
③用热等离子技术制备超细粉末，如0.01～1μm的三氧化二铝、二氧化硅和氮化硅粉末。
④冷等离子体中的聚合薄膜的形成或清洗，如半导体工业中的氧化硅膜。
⑤在冷等离子体中实现材料表面改性，如离子氮化、渗碳等工艺。
⑥等离子体技术应用于油气田生产，可进行深部解堵。
