等离子清洗原理与超声波原理不同，当舱体里接近真空状态时，开启射频电源，这时气体分子电离，等离子，产生等离子体，常压等离子表面处理机，并且伴随辉光放电现象，等离子体在电场下加速，从而在电场作用下高速运动，对物体表面发生物理碰撞，等离子的能量足以去除各种污染物，同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。
等离子清洗不需要其他的原料，只要空气就能够满足要求，使用方便而且没有污染，捷纳特等离子，同时比超声波清洗更具有的优势是等离子不但可以进行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团，这些化学集团有很高的活性，从而应用范围很广，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，亲水性等等很多方面，因此等离子清洗已经成为清洗行业的主流与趋势。
等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用：
主要技术参数：
广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最‘优质产品，以保证性能技术稳定。等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，常压等离子设备，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求 等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。
