一种低温等离子体清洗设备，该设备低温等离子体发生装置、履带输送机构、自动上料、下料机构以及受控驱动电机设置在密封反应仓内，常压等离子设备，该反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置，等离子，履带输送机构履带呈水平设置，自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处，低温等离子体发生装置设置于履带上方，数种气源经多气体比例混合供给装置和管道进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内，在高频高压电源的作用下形成等离子体态工作气体束流并射向履带上的物料，进行物理和化学方式清洗。
等离子清洗原理与超声波原理不同，当舱体里接近真空状态时，开启射频电源，等离子清洗器，这时气体分子电离，产生等离子体，并且伴随辉光放电现象，等离子体在电场下加速，低温等离子，从而在电场作用下高速运动，对物体表面发生物理碰撞，等离子的能量足以去除各种污染物，同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。
等离子清洗不需要其他的原料，只要空气就能够满足要求，使用方便而且没有污染，同时比超声波清洗更具有的优势是等离子不但可以进行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团，这些化学集团有很高的活性，从而应用范围很广，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，亲水性等等很多方面，因此等离子清洗已经成为清洗行业的主流与趋势。
