等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。
等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；
何谓等离子清洗机
等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的应用，起源于20世纪初，随着高科技产业的快速发展，等离子，其应用越来越广，目前已在众多高科技领域中，居于关键技术的地位，低温等离子发生器，等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响最‘大，首推电子资讯工业，尤其是半导体业与光电工业。
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