所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，等离子表面处理机，另一端为出气口，等离子，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置。上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，等离子清洗自动化线，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用：
主要技术参数：
广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最‘优质产品，以保证性能技术稳定。等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求 等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。
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