捷纳特,清洗,lcd等离子清洗

· FOG端子清洗,AFC清洗,lcd等离子清洗,清洗
捷纳特,清洗,lcd等离子清洗

热等离子体应用如果需要向工件(需熔化的金属)输入更多的能量,AFC清洗,可以用图1b的方式,FOG端子清洗,用工件本身作正极。图1c结构可用于陶瓷的熔解。由辅助直流炬喷出气流,再由同轴三相交流电对等离子体继续加热。热等离子体射流进入旋...


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热等离子体应用

如果需要向工件(需熔化的金属)输入更多的能量,AFC清洗,可以用图1b的方式,FOG端子清洗,用工件本身作正极。图1c结构可用于陶瓷的熔解。由辅助直流炬喷出气流,再由同轴三相交流电对等离子体继续加热。热等离子体射流进入旋转离心炉,与壁材料相互作用,使其熔化。图1d是高频 (0.5~15兆赫)无电极的等离子体装置。电能通过线圈耦合到等离子体。它的优点是可以加热各种气体(包括活性的或腐蚀性的气体),进入化学反应的杂质少,清洗,热电转换效率高。但是比较贵。


等离子清洗机

采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强,这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务,因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而且对这些难清洗部位的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似甚至更好;

使用等离子清洗,可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成,lcd等离子清洗,因此具有产率高的特点;

等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa,这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高,加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂,这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;