等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，表面清洁，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
等离子体应用
20世纪80年代，清洗，热核聚变主要采用磁约束和惯性约束两种方法来达到上述条件。
磁约束 由于热核聚变反应的等离子体温度极高，常规的容器都无法耐受，并将造成很大的热能损失。利用强磁场把高温等离子体约束在一定空间内，使之与容器壁隔开，维持其高温和高密度状态。属于磁约束方法的聚变反应装置有托卡马克（见图）、磁镜、仿星器等，AFC清洗，其中托卡马克装置上的试验数据最接近劳孙条件。它有一个类似于变压器的铁心，原边为一线圈，副边就是放电室中的等离子体。当原边线圈通过电流时，等离子体中产生很大电流，以加热等离子体。沿环形放电室设置了许多同轴线圈以约束高温等离子体，使之持续稳定地运行一定时间。
