所谓直接等离子体，亦称作反应离子蚀刻，是等离子的一种直接浸蚀形式。它的主要优势是高的
蚀刻率和高的均匀性。直接等离子体具有较低浸蚀，但工件却暴露在射线区。顺流等离子是种较弱的工艺，它适合去除厚为1～5nm的薄层。在射线区或等离子中，低温等离子，人们担心工件受到损坏，目前，这种担心还没有证据，等离子除油，看来只有在重复的高射线区和延长处理时间到60～120min才能发生，正常情况下，这样的条件只在大的薄片及不是短时的清洗中。
等离子体清洗技术的清洗原理、清洗类型、清洗设备及清 洗特点，等离子，分析了等离子体清洗技术的发展现状，着重介绍了等离子体清洗技术在航空航天制造业中铝合金表面涂装前处理、电连接器涂胶前处理、复合材料表面处理 和芳纶制件表面处理等应用，并分析了其在航空航天领域的应用前景。
随着微电子技术及工艺的飞速发展，等离子，湿法清洗技术越来越暴露出其一定的局限性。然而，干法清洗技术不但能够避免湿法清洗带来的环境污染问题，同时也使生产效率也大大得到了提高。通过大量的实践，等离子体清洗技术在干法清洗中优势非常明显。
