硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等严重影响器件性能，半导体清洗设备，清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此，硅片清洗技术成为硅材料加工和半导体工艺研究的一大热点。
在清洗工艺中，半导体腐蚀设备，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，半导体，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，使光刻胶表面高度交联，半导体清洗机，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。
选择清洗机时要注意
是否标明认证标识的发放机构的名称。
那这个认证即是假冒的 比方GS认证要求在使用认证时必需要注明实施检测的认证机构。下图表示该GS认证是由德国TUV南方集团（TüVNord检测颁发的如果产品使用的GS认证没有标明认证机构。
生产厂家的官方网站上查找是否有该认证证书。
或者证书照片非常模糊， 造假者一般都不敢也无法公开其所谓的认证证书。根本无法阅读。而正规厂家则会在其官方网站上正大光明的公开其认证证书，该证书当然是清晰可读的比方，
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