张家港晋宇达电子科技有限公司
投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移
优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。
投影式曝光分类：
扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，半导体前道设备，〉1μm工艺；掩膜板1：1，绍兴半导体前道设备，全尺寸；
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光刻机作为整个集成电路制造关键的设备，其设备的性能直接影响到整个微电子产业的发展。全球目前更先进的沉浸式光刻机也只有ASML、尼康和佳能三家能够生产，单台价格高达几千万美元。尼康的G-line、I-line步进式光刻机（stepper）、投影式光刻机在全球晶圆厂大量使用。
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