张家港晋宇达电子科技有限公司
分类编辑光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，步进光刻机，Y轴和thita角度来完成对准，北京步进光刻机，对准精度可想而知不高了；
半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程 序控制，张家港步进光刻机，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。
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光刻机对准系统编辑制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望其项背的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。
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