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光刻机性能指标光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，上海步进光刻机，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
光刻的分辨率受受光源衍射的限制，福州步进光刻机，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
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光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，步进光刻机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
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