特殊的电应用和光应用中有不断增长的提高性能的需求，这要求大大地改进硅以外的许多半导体的制造技术。
这些材料的例子包括锗，设备，因为它有高于Si的电子迁移率，去蜡腐蚀设备，有可能与高-k栅介质集成；加工应力沟道Si MOSFET所需的SiGe；以及碳化硅SiC，其带隙很宽。除了最*先进的GaAs外，像GaN、InAs、InSb、ZnO等等一些Ⅲ-Ⅴ族半导体也越来越引起人们的兴趣。
按照清洗机精度的要求不同，主要分为一样平常财打造清洗机，周详财打造清洗机与超周详财打造清洗机三大类。
在常日保存中，与个地利家庭保存密切关系的洗涤，蓝宝石酸洗设备，包罗衣物清洗机，人体皮肤，头发清洗机，有机去胶设备，家庭用品，房屋的清洗机等，通常称为民用清洗机。
打造清洗机包罗各种打造品加工生打造过程当中的清洗机，各种质料及装备外表的清洗机等，以大要去除细微的污垢粒子为特性；
湿法清洗 ：
湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等。
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