保护膜的残胶的几种表现现象和形成机理
【CPP磨砂保护膜】保护膜主要就是由基材和胶构成的，因此保护膜产品上留有残胶也是经常会发生的，光学保护膜厂商，而且表现出来的状况也有不同种。下面我们就来分析一下保护膜残胶的表象的几种状况及其机理。
在生产过程中，由于各方面因素的影响，光学保护膜，保护膜的残胶表象主要包括表面和基材上都有压敏胶；表面上比较多，涂胶面可见基材；表面上有压敏胶残留，但涂胶面光泽良好。【防静电PET保护膜】
以这些情况来说，残胶形成的机理主要有几下几种：
保护膜剥离强度发生改变，光学保护膜供应，保护膜使用一段时间之后要揭下来，山东光学保护膜，但是在这段时间之内保护膜的剥离强度会随着时间的增加而增加。
当剥离强度上升到跨越内聚强度或粘基力时，就会有内聚损坏或粘基损坏现象出现，也就是残胶的形成。
PET保护膜１、低粘要求：适用于平面、光面、镜面不锈钢板材、塑料片材、PMMA、PS板、PC板等产品。
２、中粘要求：适用于不锈钢粗纹磨沙板、雪花板、铝塑板（细纹）、塑钢、铝型材和聚脂板材等产品。３、高粘要求：适用于难粘特殊产品的保护，铝塑板粗纹、佛碳板和表面不光滑的产品。PET分单层两层PEF、三层PET保护膜及静电保护膜。保护膜用来保护平面显示器之面板表面（玻璃、亚克力或PC材质）、CRT、触控式萤幕、手机、数位相机及PDA面板，于使用中避免刮伤，达到保护萤幕面板效果。
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