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护膜的残胶的几种表现现象和形成机理

【CPP磨砂保护膜】保护膜主要就是由基材和胶构成的,因此保护膜产品上留有残胶也是经常会发生的,而且表现出来的状况也有不同种。下面我们就来分析一下保护膜残胶的表象的几种状况及其机理。

  在生产过程中,由于各方面因素的影响,上海光学保护膜,保护膜的残胶表象主要包括表面和基材上都有压敏胶;表面上比较多,涂胶面可见基材;表面上有压敏胶残留,但涂胶面光泽良好。【防静电PET保护膜

  以这些情况来说,残胶形成的机理主要有几下几种:

  保护膜剥离强度发生改变,保护膜使用一段时间之后要揭下来,但是在这段时间之内保护膜的剥离强度会随着时间的增加而增加。

  当剥离强度上升到跨越内聚强度或粘基力时,就会有内聚损坏或粘基损坏现象出现,光学保护膜,也就是残胶的形成。


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