晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻注意事项给出如下：
前烘
前烘的目的是去除胶模中的绝大部分溶剂，增强胶模的光敏性。还可以改善胶模的均匀性和黏附性。前烘温度不高，沈阳直手臂，一般为100℃左右。
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光刻机紫外光源曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:紫外光（UV），g线：436nm;i线：365nm深紫外光（DUV），KrF 准分子激光：248 nm， ArF 准分子激光：193 nm极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm对光源系统的要求
光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作，在进行调整时，以下几点准则应当遵循：
●匹配使用的光刻机，首先应该是各单台光刻机调整到设备本身的最.佳状态，各项技术指标必须在设备规定的范围之内。
●设备进行匹配调整时，凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整，直手臂，因为软件调整是可改变的，苏州直手臂，可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差，特别是有严格精度要求的，基本上没有硬件调整的余地。
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