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光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，直手臂，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，张家港直手臂，所以叫 Mask Alignment System.

性能指标

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

公司透过从技术维修服务的突破性整合，沈阳直手臂，致力缔造企业核心竞争力

晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备        

光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

以客户为中心、服务为核心和销售作为经营理念，为大陆提供优质服务为宗旨的企业思想

     随着光刻技术的不断发展，直手臂工厂，光学光刻已从传统的G线、I线到，发展到远紫外，197nm以及157nm，设备的占用成本越来越高，而随着集成电路设计尺寸的继续缩小，更为严格的套刻指标和巨额的设备成本，混合匹配使用将成为一种必然的需要。各种混合匹配，以及光学光刻之后下一代光刻系统的混合匹配是需要不断研究的新课题。

沈阳直手臂|晋宇达|直手臂由张家港晋宇达电子科技有限公司提供。“光刻机,尼康步进光刻机,半导体前道设备”就选张家港晋宇达电子科技有限公司（www.jinyd.net），公司位于：张家港经济技术开发区福新路2号，多年来，晋宇达坚持为客户提供优质的服务，联系人：丁桃宝。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。晋宇达期待成为您的长期合作伙伴！