主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，三氟化氮，在瞬间伴随放出大量的热，三氟化氮价格，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，无锡三氟化氮，对硅和氮化硅的蚀刻，高纯三氟化氮，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
物性数据
1.性状：无色、带霉味的气体。[1]
2.熔点（oC）：-208.5[2]
3.沸点（oC）：-129[3]
4.相对密度（水=1）：1.89（沸点，液体）[4]
5.相对蒸气密度（空气=1）：2.45[5]
6.临界温度（oC）：-39.3[6]
7.临界压力（MPa）：4.53[7]
8.溶解性：不溶于水。[8]
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