用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，高纯三氟化氮，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体，对硅和 氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，进口三氟化氮，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，扬州三氟化氮，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
存储方法
1.在70℃以下NF3气体对普通金属是不腐蚀的，因此钢、铜、镍、铝和不锈钢在70℃以下均可用作包装材料。用钢瓶和铝合金瓶充装，对气瓶每两年要检验一次。按有毒高压液化气体规定运输，三氟化氮价格，国外规定可以用汽车、火车运输，不能用飞机运输。气瓶充装系数不大于0.01。
2.储存注意事项[16] 储存于阴凉、通风的有毒气体专用库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易（可）燃物、还原剂、食用化学品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。
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