半导体湿法设备厂家,苏州晶淼半导体,半导体湿法设备

      半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

      为了半导体清洗技术能满足不断出现的新需求，必须对现有工艺进行调整和修改。随着纵向尺寸持续缩小，清洗操作过程中的材料损失和表面粗糙就会成为必须关注的领域。将微粒去除而又没有材料损失和图形损伤是最基本的要求，半导体湿法设备厂家，因此必须考虑周全并有所折衷。

清洗安全操作规范：

(1)药品使用完后，必须把瓶盖拧紧并放到安全处；  

(2)工作台前的外窗门，半导体湿法设备，在使用时和使用后，均应拉下封闭，防止试剂污染晶片和超净间，危害员工健康；

(3)废液回收时一定要两人同时在场。

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