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      半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

       苏州晶淼半导体设备有限公司，半导体湿法设备供应，我们的每台设备除标准化制作外，北京半导体湿法设备，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。

     像兆频超声搅动这样的物理辅助手段对结构损伤和图形坍塌等有潜在影响，半导体湿法设备，正在对其改进，以便在保持微粒去除工艺效率的同时不对图形完整性产生有害影响。考虑到表面形态的原子级恶化都可能对器件性能会有致命影响，即使像DI水清洗等这些看起来最良性的清洗程序元素也必须重新评估。

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