苏州rca清洗机台,rca清洗机,苏州晶淼半导体

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     就清洗媒介来说,无锡rca清洗机台设备,湿法清洗仍然是现代先进晶圆清洗工艺的主力。虽然Si技术中的清洗化学材料与最初RCA的配方相差不大,但整体工艺最明显的改变包括:采用了非常稀释的溶液;简化工艺;广泛使用臭氧水。


超声清洗:

  腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构,普通的清洗方法一般不能达到孔内,rca清洗机,而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染,而且能深入MCP孔内的效果。



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