清洗的设备仪器
主要以湿法清洗为主，半导体清洗，以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机：循环去离子(DI)水，对蓝宝石进行冲洗；形成局部通风区域，半导体清洗机厂家，对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。
清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，半导体清洗机供应商，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，目前全球各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。
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