光刻机的演变及今后发展趋势
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，绍兴步进光刻机，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，东莞步进光刻机，揭示下一代光刻设备的发展潜力，步进光刻机，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，厦门步进光刻机，预言将来利用极紫外光刻机、电子束曝光机和光学光刻机的结合，实现产业需要的各种图形的制备。
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光刻注意事项给出如下：
前烘
前烘的目的是去除胶模中的绝大部分溶剂，增强胶模的光敏性。还可以改善胶模的均匀性和黏附性。前烘温度不高，一般为100℃左右。
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