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光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，福州陶瓷手臂，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，杭州陶瓷手臂，所以叫 Mask Alignment System.

性能指标

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，陶瓷手臂，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

张家港晋宇达电子科技有限公司

     步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。

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