无尘洁净室的气流速度/换气次数，一直是洁净室设计中受到关注的问题，随着洁净室污染源的控制效果增加及末级过滤器效率的提高等，净化工程，对有关规范、导则等提
出的推荐或参考值是否偏于保守，已有不少讨论;FFU在应用中人们担心的噪音、损坏维修等问题已在实践中得到解决，随着FFU的不断改进，对是否采用
FFU回风系统也是个热点：悬浮分子污染(AMC)的控制在微电子及IC工业中已日益提到日程上来，受到关注。以下对这些问题的情况分别作归纳和分析。
无尘洁净室内一定洁净度下气流速度的确定，随洁净室用途等具体情况而异，它不仅受室内发尘量及过滤器效率还受其他因素影响。
净化工程
洁净室最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
净化工程——无尘车间
所谓的无尘车间是一个人造的环境，净化工程价格，里面含有的粒子远低于一般的环境，随着集成电路技术的快速成长，净化工程厂家，也增加了对制造环境(无尘车间)洁静度的需求，在工业上即使粒子之尺寸小于1微米，也可能阻碍产品的运作或降低其寿命。
由于奈米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断的增加，净化工程哪里有，尘粒更容易使芯片失效或可靠度恶化。例如当金属尘粒地落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。又如果有酸性的离子化合物尘粒掉在金属导线上，可能将其腐蚀，所以无尘车间为集成电路制造不可或缺的要素。
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