传统光刻机的演变和所面临的挑战
光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，化学，尼康步进光刻机，材料科学，精密机械，精密控制，工程学等等。在过往的20几年中，光刻机作为半导体制造业的重要设备，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大NA非球面镜光学系统，厦门尼康步进光刻机，短波长光源，分辨率增强技术（降低K1因子），同步扫描工件台等。
张家港晋宇达电子科技有限公司
Nikon系列光刻机中，沈阳尼康步进光刻机，掩膜版的直角坐标系统、硅片的直角坐标系统、硅片上曝光成像图形的坐标系统以及硅片工作台的直角坐标系统，掩膜版坐标系统的原点是掩膜版的中心，硅片坐标系统的原点是硅片的中心位置，而硅片上曝光成像图形的中心，亦即该坐标系统的原点是掩膜版中心在硅片上投影成像点的位置。
尼康步进光刻机、晋宇达、苏州尼康步进光刻机由张家港晋宇达电子科技有限公司提供。张家港晋宇达电子科技有限公司（www.jinyd.net）是江苏 苏州 ,其它的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，很大限度的满足客户需求。在晋宇达领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创晋宇达更加美好的未来。