清洗腐蚀,苏州晶淼半导体(在线咨询),徐州腐蚀

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清洗安全操作规范:(1)操作前,一定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,请求调整;(2)在通风橱里开启药品,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套;(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并...


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清洗安全操作规范:


(1)操作前,一定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,请求调整;

(2)在通风橱里开启药品,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套

(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶;

(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。






     硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等严重影响器件性能,清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此,硅片清洗技术成为硅材料加工和半导体工艺研究的一大热点

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影响超声清洗的因素


    清洗液的流动速度对超声清洗效果也有很大影响,晶圆腐蚀设备,是在清洗过程中液体静止不流动,清洗腐蚀,这时泡的生长和闭·运动能够充分完成。如果清洗液的流速过快,湿制程腐蚀机,则有些空化核会被流动的液体带走有些空化核则在没有达到生长闭·运动整过程时就离开声场,因而使总的空化 强度降低。在实际清洗过程中有时为避免污物重新粘附在清洗件上.清洗液需要不断流动更新,此时应注意清洗液的流动速度不能过快,以免降低清洗效果。

    清洗液中气体的含量对超声波清洗效果也有影响。在清洗液中如果有残存气体(非空化核)会增加声传播损失,此外在空化泡运动过程中扩散到泡中的气体,在空化泡崩溃时会降低冲击波强度而削弱清洗作用。因此有些超声清洗设备具有除气功能,在开机时先进行低于 空化阈值的功率水平作振动,以脉冲或间歇方式振动进行除气.然后功率加到正常清洗的功率水平进行超声清洗。