用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体，对硅和 氮化硅蚀刻，三氟化氮减压阀，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
运输信息
危险货物编号： 23016 UN编号： 2451
包装类别： Z01
运输注意事项： 铁路运输时须报铁路局进行试运，试运期为两年。试运结束后，写出试运报告，报铁道部正式公布运输条件。采用刚瓶运输时必须戴好钢瓶上的安全帽。钢瓶一般平放，并应将瓶口朝同一方向，不可交叉；高度不得超过车辆的防护栏板，并用三角木垫卡牢，防止滚动。严禁与易燃物或可燃物、 还原剂、食用 化学品等混装混运。夏季应早晚运输，防止日光曝晒。公路运输时要按规定路线行驶，高纯三氟化氮，禁止在居民区和人口稠密区停留。铁路运输时要禁止溜放。
三氟化氮-制备
由电解熔融的NH4F—HF，经真空分馏制得；也可在Ca催化下，由过量的F2和NH3反应制取。
由电解熔融的NH4F—HF，经真空分馏制得；也可在Ca催化下，由过量的F2和NH3反应制取。
由电解熔融的NH4F—HF，三氟化氮，经真空分馏制得；也可在Ca催化下，由过量的F2和NH3反应制取。
由电解熔融的NH4F—HF，经真空分馏制得；也可在Ca催化下，三氟化氮，由过量的F2和NH3反应制取。
由电解熔融的NH4F—HF，经真空分馏制得；也可在Ca催化下，由过量的F2和NH3反应制取。
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