半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，晶圆酸洗，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
主要清洗参数为：1、材质：槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型：可根据客户要求加工定制。3、功率、频率：可调，采用独特的超声波发生器，能量转换率高。4、温控：常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。
清洗设备分类
清洗设备是指废旧塑料瓶、塑料薄膜等废旧塑料经过清洗、烘干、加工制作成重新再利用的机械设备。
清洗设备分为:pet瓶片清洗设备、不锈钢成套清洗设备、塑料清洗设备、新型清洗设备、小型清洗设备、中型清洗设备等。
Pet瓶片清洗设备是指全自动聚酯(如矿泉水瓶、苏打水瓶)片料回收清洗、脱水、干燥生产线，苏州晶圆，pet瓶片清洗设备(饮料瓶片清洗机设备、pet清洗机组)该生产线月产量可达300-1200吨，自动化程度高，从破碎、输送、清洗、漂洗、脱水、干燥一体化。
与此同时，专业化，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的专业家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。专业化运作的局面． 随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，晶圆腐蚀设备，从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史最为悠久和普遍的清洗用品．
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