光刻机
传统光刻机的投影物镜多采用全折射式设计方案，无锡步进光刻机，即物镜全部由旋转对准装校的透射光学元件组成。其优点是结构相对简单，步进光刻机，易于加工与装校，北京步进光刻机，局部杂散光较少。然而，大数值孔径全折射式物镜的设计非常困难。为了校正场曲，必须使用大尺寸的正透镜和小尺寸的负透镜以满足佩茨瓦尔条件，即投影物镜各光学表面的佩茨瓦尔数为零。
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一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
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