等离子体所与核工业二三建设公司签署战略合作协议
11月24日上午，中科院等离子体所与中国核工业二三建设有限公司签署战略合作协议。等离子体所所长万宝年与中国核工业二三建设有限公司董事长、党委书记徐永强代表双方签字。
中国核工业二三建设有限公司副总经理范凯，PTI等离子清洗机，国际事业部总经理冯满军、总工程师张伟栋，等离子液晶，等离子体所党委书记张晓东、副所长吴新潮、所长助理赵君煜及相关部门负责人等出席签约仪式，中国国际核聚变能源计划执行中心房同珍处长见证全过程。
等离子去除光致抗蚀剂
在晶片制造工艺中，使用氧等离子体去除晶片表面抗蚀刻(photoresist)。干式工艺唯’一的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏感性的设备造成损害。为了解决这一问题，等离子清洗器，人们发展了几种工艺，泰州等离子，其一是用一个法拉第装置以隔离轰击晶片表面的电子和离子;另一种方法是将清洗蚀刻对象置于活性等离子区之外。(顺流等离子清洗)蚀刻率因电压、气压以及胶的量而定，典型的刻蚀率为100nm/min，正常需要10min。
